多功能試樣表面處理機(jī)

簡(jiǎn)要描述：多功能試樣表面處理機(jī)是為掃描電鏡和電子揉針等進(jìn)行試驗(yàn)制備的設(shè)備，可進(jìn)行真空蒸碳、真空鍍膜和離子濺射，它也可以在高純氫氣保護(hù)下進(jìn)行等離子處理。對(duì)于實(shí)驗(yàn)室此款設(shè)備是*的鍍膜設(shè)備。

產(chǎn)品型號(hào)：GSL-1800X-SBC2
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-02-11
訪問(wèn) 量：3520

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產(chǎn)品分類(lèi)

薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 蒸發(fā)鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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詳細(xì)介紹

多功能試樣表面處理機(jī)是為掃描電鏡和電子揉針等進(jìn)行試驗(yàn)制備的設(shè)備，可進(jìn)行真空蒸碳、真空鍍膜和離子濺射，它也可以在高純氫氣保護(hù)下進(jìn)行等離子處理。對(duì)于實(shí)驗(yàn)室此款設(shè)備是*的鍍膜設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)

輸入電源	208 - 240VAC , 10A , 50/60 Hz, 單相
功率	< 2000W (包括真空泵)
輸出電壓 (DC)	AC10V zui大電流 100A （對(duì)于真空鍍膜） DC 3KV, 10mA （對(duì)于等離子濺射）
真空腔體	有一玻璃鐘罩：250mm dia. x 340mm （2）玻璃處理室：玻璃罩 A:內(nèi)徑８８mm×高度１４０mm（用于真空鍍膜) 玻璃罩 B:內(nèi)徑８８mm×高度５７mm（用于等離子濺射）
鍍膜裝置	對(duì)于制膜，儀器可設(shè)置三種模式：（1）一種模式專門(mén)針對(duì)于蒸發(fā)鍍膜（下方左圖）此儀器可以同時(shí)蒸鍍兩種材料，其zui高溫度可以達(dá)到1800℃ 采用鎢絲進(jìn)行加熱（2）蒸碳鍍膜模式（下方中圖）儀器中包括有兩組碳棒（3）直流等離子濺射模式（下方右圖）儀器中包含有一金靶（38mm Dia x 0.2 mm t）可在本公司選購(gòu)其他材質(zhì)靶材( 請(qǐng)點(diǎn)擊查看 ) Thermal Evaporation Carbon coating Plasma sputtering
樣品臺(tái)	樣品臺(tái)可以自動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)（見(jiàn)做圖）樣品臺(tái)尺寸：40mm 儀器上安裝有一電動(dòng)快門(mén)用于控制蒸鍍的開(kāi)始與停止（見(jiàn)右圖）
真空泵	儀器下端安裝有一機(jī)械泵和分子泵抽速:600L/S 真空度: 10-6 torr 設(shè)備工作環(huán)境溫度:< 32°C
控制面板	在控制面板上可以選擇鍍膜模式，調(diào)節(jié)濺射電流和蒸發(fā)功率
外型尺寸	L800mm× W560mm× H1340mm
凈重	150 kg
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期，終身維護(hù)
質(zhì)量認(rèn)證	CE certified